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半導體行業(yè)潔凈室要關注的幾大要點

一、半導體潔凈室要控制的的主要因素

1、潔凈室溫度：23±1℃

2、潔凈室濕度：45±3%rh

3、潔凈室噪聲：煩惱效應，語言通訊干擾，影響工作效率，低頻噪聲影響設備

4、潔凈室壓力：正壓與負壓是相對而言，一個潔凈室對大氣而言是正壓潔凈室，但對另外一個房間而言可能是負壓潔凈室。不同等級的潔凈室以及潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的壓差不小于5Pa，潔凈區(qū)與室外的壓差不小于10Pa.

5、潔凈室靜電：地面的面層應具有導電性能，并應保持長時間性能穩(wěn)定，采用靜電耗散性材料，地面應設有導電泄放措施和接地構造，流動液體，氣體或粉體管道應采取防靜電接地措施。

6、潔凈室振動：*密設備、*密儀器儀表的容許振動值應由生產(chǎn)工藝和設備制造部門提供。振動尤其對光刻設備影響**。

7、潔凈室潔凈度：半導體潔凈室控制的重中之重

生產(chǎn)區(qū)：1000級

黃光區(qū)：100級

Mask光罩區(qū)：10級

二、如何控制潔凈室內(nèi)顆粒物?

通常通過服裝，MAU，F(xiàn)FU及入口的風淋室等控制手段，可有效控制顆粒物的產(chǎn)生

潔凈室：空氣懸浮粒子濃度受控的房間。它的建造和使用應減少室內(nèi)誘入、產(chǎn)生滯留粒子。室內(nèi)其它有關參數(shù)如溫度、濕度、壓力、靜電、振動、噪聲等按要求進行控制。

為什么半導體行業(yè)需要建造潔凈室：由于半導體工業(yè)所制作的集成電路元件尺寸越來越小，在一塊小小的芯片上，整合了許許多多的元器件，因此在制造的過程中就要防止外界雜質(zhì)污染源(包括塵埃、金屬離子、各類有機物等)，因為這些污染源可以造成元器件性能的劣化及產(chǎn)品成品率和可靠性的降低。所以制造集成電路需要在潔凈的環(huán)境中進行，以盡量將污染源和硅片隔離。