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根據(jù)**慣例，無(wú)塵凈化的水平主要取決于每立方米空氣中顆粒的數(shù)量，其直徑大于分類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)。換句話說(shuō)，所謂的無(wú)塵不是**沒(méi)有灰塵，而是控制在一個(gè)非常小的單位。當(dāng)然，本標(biāo)準(zhǔn)中符合塵埃標(biāo)準(zhǔn)的粒子與我們普通的塵埃相比已經(jīng)很小了，但對(duì)于光學(xué)結(jié)構(gòu)來(lái)說(shuō)，即使是很小的塵埃也會(huì)有非常大的負(fù)面影響。沒(méi)有灰塵是不可避免的要求。

顆粒粒徑小于0.5微米/立方米的控制在3500以下，達(dá)到**無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)a級(jí)。目前，適用于芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)粉塵的要求高于a類(lèi)。此類(lèi)高標(biāo)準(zhǔn)主要用于一些高水平的芯片生產(chǎn)。粉塵量嚴(yán)格控制在每立方米1000以內(nèi)，也被業(yè)內(nèi)稱(chēng)為1K級(jí)。